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據(jù)外媒報道，臺積電仍采用鰭式場效應晶體管架構(gòu)的 3nm 制程工藝，在去年的 12 月 29 日正式開始商業(yè)化生產(chǎn)，雖然較三星電子晚了近半年，但仍被業(yè)界看好。
對于 3nm 制程工藝，臺積電管理層在一季度的財報分析師電話會議上，也有重點談及。
在財報分析師電話會議上，臺積電 CEO 魏哲家表示，他們的 3nm 制程工藝以可觀的良品率量產(chǎn)，在高性能計算和智能手機應用需求的推動下，客戶對 3nm 制程工藝的需求超過了他們的產(chǎn)能，他們預計今年的產(chǎn)能將得到充分利用。
魏哲家在會上還透露，他們的 3nm 制程工藝，預計從三季度開始就將為他們帶來可觀的營收，在他們今年全年晶圓代工業(yè)務收入中所占的比例預計為中等個位數(shù)。
魏哲家在會上還表示，從功耗、性能和面積及晶體管技術(shù)來看，他們的 3nm 制程工藝都是目前最先進的半導體技術(shù)，他們也因此預計客戶對他們的 3nm 制程工藝的強勁需求將持續(xù)多年，他們有信心 3nm 制程工藝家族成為他們另一個大而持久的工藝節(jié)點。
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